受AI及高端芯片需求驱动，全球12英寸晶圆产能扩张提速。据国际半导体产业协会（SEMI）预测，2026年全球12英寸硅片需求将突破1000万片/月，中国大陆地区需求量超300万片。市场扩张为本土供应链企业带来广阔机遇，而超纯水作为芯片制造不可或缺的“工业血液”，其供应能力与水质纯度直接影响产能及产品良率。高频科技作为聚焦于芯片制造等电子核心产业的超纯水系统供应商，凭借“超纯水质”与“高效节水”等核心优势，为高端芯片制造提供全方位保障。
超纯工艺，满足半导体生产“芯”需求
芯片制造对超纯水的纯度要求堪称“苛刻”，其电阻率需高达18.2MΩ·cm，且对水体中的溶解离子、总有机碳（TOC）、颗粒物及微生物等杂质的容忍度极低。任何微小的污染物都可能导致芯片电路短路、性能下降或直接失效。随着制程工艺不断向14纳米、7纳米乃至更先进节点演进，对超纯水水质的要求也日益严苛。
高频科技经过多年持续研发投入与工艺探索，其所设计研发的超纯水系统涉及超过18项专业处理工艺环节、8次增压提升，系统制备的超纯水纯度可达ppt级别，离子含量仅万亿分之一，可充分满足下游芯片客户对生产用超纯水要求。凭借这一技术实力，高频科技成为国内极少数能够在芯片领域提供超纯水系统的企业，亦是国内首家具备12英寸14纳米芯片产线超纯水制备能力的系统供应商。
高效节水，助力半导体企业降本增效
半导体制造是水资源密集型产业，巨大的耗水量对企业运营成本构成挑战。数据显示，制造8英寸晶圆每小时约耗水250立方米，而制造更先进的12英寸晶圆，每小时耗水量则高达500立方米。因此，水资源的高效利用与回收，对企业的经济效益和可持续发展至关重要。
高频科技通过双重技术路径提高水的循环利用：一方面掌握科学的纯水制备与废水处理工艺，深度去除水中杂质以满足后续用水标准；另一方面凭借前瞻性设计能力，基于对制程工艺的深刻理解规划整厂用水平衡，预留充足排水管路，可对制程机台30多道废水进行合理分流回用，并搭配适配设备及工艺实现更佳处理效果。当前，其设计的项目水平衡可实现整厂用水的制备回收率高达90%，显著降低了企业对水资源的消耗与废水排放总量，有效帮助半导体企业达成降本增效与可持续发展的双重目标。
面对12英寸半导体产能快速增长的市场需求，高频科技凭借先进的超纯工艺与节水技术，提供稳定可靠的高纯度用水保障及系统化水资源管理方案，有力支撑本土半导体企业产能扩张与可持续发展，赢得行业客户广泛认可与信赖。展望未来，高频科技将持续深耕超纯工艺研发创新，以持续可靠的解决方案响应市场增长需求，为中国高端芯片制造筑牢关键水资源保障。
